Waferhandling Plasma – 3. Generation
Beladen und Entladen von GraphitbooteN
Zur Steigerung des Wirkungsgrads wird die Solarzelle mit einer Antireflexionsschicht versehen. Das Aufbringen dieser Schicht erfolgt durch eine spezielle Technik – das PECVD Verfahren (s.u.).
Beim Batch-Prozess wird dazu ein Graphitboot mit Wafern beladen und in einen Ofen transportiert.
Baumann Waferhandling Plasma ...
... automatisiert diesen Be- und Entladeprozess und setzt eine speziell
entwickelte Greifer-Technologie ein, die sicheres Handling bei minimalem
Wafer-Bruch gewährleistet.
Ein im System integrierter 6-Achsroboter
ermöglicht auch komplexe Belade- und Entladeprozesse bei höchster
Präzision.
Ein optional integriertes Visionsystem prüft Materialfehler und kontrolliert die Beschichtungsqualität nach dem Entladeprozess.
Hauptmerkmale:
- Durchsatz Bis zu 5.700 W/h
- Bruchrate ≤ 0,1 %
- Technische Verfügbarkeit ≥ 98 %
PECVD steht im Englischen für plasma-enhanced chemical vapour
deposition, oder auch engl. plasma-assisted chemical vapour deposition,
kurz PACVD.